一、低温抛光工艺
①低温抛光槽中低温抛光剂浓度控制为总酸25—30g/l，最低≥15 g/l；
②抛光槽温20-30℃不得低于20℃，抛光时间90—200s；
③提架倾斜，滴净残液后，迅速放入清水槽中漂洗，经两道水洗后迅速放入氧化槽氧化，在水槽中停留时间不应大于3分钟；
④低温抛光材料在抛光前不得进行其它方式的处理，也不能将其它槽液带入抛光槽中。
二、除油工艺
①在室温酸液中进行，时间2—4分钟，H2SO4浓度140-160 g/l；
②提架倾斜滴净残液后，放入清水槽中清洗1-2分钟。
三、磨砂（酸蚀）工艺
①除油后在清水槽清洗再进入酸蚀槽；
②工艺参数：NH4HF4浓度30-35 g/l，温度35-40℃，PH值2.8-3.2，酸蚀时间3-5分钟；
③酸蚀结束后经两道水洗再进入碱蚀槽。
四、铝氧化的工艺流程：
1、上架；水洗；低温抛光
2、磨砂料及磨砂电泳料氧化
3、着色料及着色电泳料氧化
